Nivel UP-S (es decir, nivel MOS): el contenido de impurezas metálicas es inferior a 1 ppb, adecuado para la tecnología de procesamiento de circuitos integrados de
0,35-0,8 micrones. Reactivo de grado puro para espectrometría de masas con plasma (ICP-Mass Pure Grade):
El contenido de la mayoría de los elementos de impureza es inferior a 0,1 ppb, adecuado para espectrometría de masas con plasma (ICP Mass)
Diario análisis de Trabajo. Reactivo de grado puro del espectrómetro de emisión de plasma (ICP Pure Grade):
El contenido de la mayoría de los elementos de impureza es inferior a 1 ppb, adecuado para el trabajo de análisis diario del espectrómetro de emisión de plasma (ICP).
Reactivo de grado puro del espectrómetro de absorción atómica (grado puro AA):
El contenido de la mayoría de los elementos de impureza es inferior a 10 ppb, adecuado para el trabajo de análisis diario del espectrómetro de absorción atómica (AA)