Las obleas de silicio deben limpiarse cuando están sucias. El objetivo de la limpieza es eliminar la contaminación y las impurezas de la superficie, incluidas las sustancias orgánicas e inorgánicas. Algunas de estas impurezas existen en estado atómico o iónico, y otras existen en forma de películas delgadas o partículas en la superficie de la oblea de silicio. Puede causar varios defectos. Echemos un vistazo al proceso de limpieza de las obleas de silicio.
1. Limpieza física: Existen tres métodos de limpieza física. ① Cepillado o fregado: puede eliminar las partículas contaminantes y la mayor parte de la película adherida a la película. ② Limpieza a alta presión: se rocía líquido sobre la superficie de la película y la presión de la boquilla alcanza varios cientos de atmósferas. La limpieza a alta presión se basa en la acción del chorro, por lo que es menos probable que la película se raye o se dañe. Sin embargo, la pulverización a alta presión producirá electricidad estática, lo que se puede evitar ajustando la distancia y el ángulo entre la boquilla y la película o añadiendo un agente antiestático. ③Limpieza ultrasónica: la energía sonora ultrasónica se transmite a la solución y la contaminación de la película se elimina mediante cavitación. Sin embargo, es más difícil eliminar partículas de menos de 1 micrón de películas estampadas. Aumente la frecuencia a la banda de frecuencia ultra alta para un mejor efecto de limpieza.
2. Limpieza química. Existen muchos métodos de limpieza química, incluida la extracción con disolventes, el decapado (ácido sulfúrico, ácido nítrico, agua regia, diversos ácidos mixtos, etc.) y métodos de plasma. Entre ellos, el método de limpieza del sistema de peróxido de hidrógeno es eficaz y causa poca contaminación ambiental. El método general consiste en limpiar primero la oblea de silicio con un líquido ácido con una proporción de composición de H2SO4:H2O2=5:1 o 4:1. La fuerte propiedad oxidante de la solución limpiadora descompone y elimina la materia orgánica después de enjuagar con agua ultrapura, use un álcali con una proporción de composición de H2O:H2O2:NH4OH=5:2:1 o 5:1:1 o 7:2: 1 Limpieza con una solución de limpieza química Debido a la oxidación del H2O2 y la complejación del NH4OH, muchos iones metálicos forman complejos solubles estables y son solubles en agua, luego se utiliza una proporción de composición de H2O:H2O2:HCL=7:2:1; o solución de limpieza ácida 5:2:1, debido a la oxidación del H2O2 y la disolución del ácido clorhídrico, así como a las propiedades complejantes de los iones cloruro, muchos metales generan iones complejos que son solubles en agua, logrando así el propósito de limpieza. .