El principio del grabado con plasma se puede resumir en los siguientes pasos:
●Bajo baja presión, el gas reactivo se ioniza y forma plasma bajo la excitación de la energía de radiofrecuencia. está compuesto por electrones e iones cargados. Bajo el impacto de los electrones, el gas en la cámara de reacción no solo se transforma en iones, sino que también absorbe energía y forma una gran cantidad de grupos activos (radicales)
●Actividad. Los grupos reactivos forman una reacción química con la superficie del material grabado y forman productos de reacción volátiles.
●Los productos de reacción se desprenden de la superficie del material grabado y son extraídos de la cavidad por el sistema de vacío. .
En una cámara de reacción de plasma de electrodos paralelos, el objeto a grabar se coloca sobre un electrodo con un área más pequeña, en este caso se formará una polarización de CC entre el plasma y el electrodo. Los iones de gas reactivo cargados positivamente golpean la superficie del material a grabar. Este bombardeo de iones puede acelerar en gran medida la reacción química en la superficie y la desorción de los productos de reacción, lo que resulta en una tasa de grabado muy alta. El bombardeo de iones permite realizar un grabado anisotrópico.