La condensación de películas depositadas en fase de vapor es común en la llamada física.
Deposición en fase vapor (método PVD). El método PVD funciona a través de tres pasos principales: generación
evaporar o sublimar sustancias en fase gaseosa que reducen la atmósfera;
transportar el material desde la fuente hasta el sustrato y formar; la película delgada.
Nuclear y proliferación. Ejemplos de métodos PVD incluyen evaporación por haz de electrones, epitaxia por haz molecular, evaporación térmica, pulverización catódica, deposición de plasma por arco catódico y deposición por láser pulsado. Estas técnicas de deposición se han utilizado ampliamente para recubrir una variedad de materiales electrónicos, como aislantes, semiconductores, conductores y superconductores. Estas tecnologías se han utilizado recientemente para almacenar nanopartículas.
Electrónica avanzada y gran construcción multicapa con apariencia resistente al desgaste.