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7.1 Introducción

La condensación de películas depositadas en fase de vapor es común en la llamada física.

Deposición en fase vapor (método PVD). El método PVD funciona a través de tres pasos principales: generación

evaporar o sublimar sustancias en fase gaseosa que reducen la atmósfera;

transportar el material desde la fuente hasta el sustrato y formar; la película delgada.

Nuclear y proliferación. Ejemplos de métodos PVD incluyen evaporación por haz de electrones, epitaxia por haz molecular, evaporación térmica, pulverización catódica, deposición de plasma por arco catódico y deposición por láser pulsado. Estas técnicas de deposición se han utilizado ampliamente para recubrir una variedad de materiales electrónicos, como aislantes, semiconductores, conductores y superconductores. Estas tecnologías se han utilizado recientemente para almacenar nanopartículas.

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