En 1972, se desarrolló con éxito el primer horno monocristalino TDK-40 de mi país con función de control de igual diámetro.
En 1980, se desarrolló con éxito el primer horno de cristal de óxido de alta temperatura de mi país, el horno de cristal láser SJ78-3.
En 1983, se desarrolló con éxito el primer equipo de crecimiento y extracción de cristales de eje blando de mi país, el horno monocristalino TDR-50.
En 1984, se desarrolló con éxito el primer equipo de trefilado de fibra óptica de mi país, el horno de trefilado de fibra óptica SJ 81-4.
En 1990, se desarrolló con éxito el primer equipo de crecimiento de semiconductores compuestos de mi país, el horno monocristalino de alta presión TDR-GY30.
En 1990, se desarrolló con éxito el primer equipo de crecimiento de cristales de fusión de 4 zonas de gran diámetro de mi país, el horno monocristalino de fusión de zonas TDL-FZ35.
En 1994, se desarrolló con éxito el primer equipo de crecimiento de cristales MCZ de mi país, el horno monocristalino de campo magnético TDR-50AC.
En 1994, se desarrolló con éxito el primer equipo de crecimiento de cristales de germanio de gran diámetro de mi país, el horno monocristalino de germanio TDR-60 CPA.
En 1995, se desarrolló con éxito el primer sistema de control de diámetro igual por computadora de alta precisión de mi país para equipos de crecimiento de cristales: el horno monocristalino TDR-62A(B).
En 1995, se desarrolló con éxito el primer equipo de crecimiento de cristales a gran escala de mi país, el horno de cristales TDR-90X.
En 1996, se desarrolló con éxito el primer equipo de crecimiento de cristales VGF de mi país, el horno monocristalino de voltaje medio TDR-ZY40B.
En 1997, se desarrolló con éxito el primer equipo de crecimiento de cristales de mi país con un diámetro de 8, el horno monocristalino TDR-80.
En 1998, se desarrolló con éxito el primer equipo dedicado al crecimiento de cristales de mi país, el horno monocristalino DR-70.
En 1999, se desarrolló con éxito el primer equipo de cristal óptico de alta precisión de mi país, el horno de cristal óptico TDL-J75.
En 2000, se desarrolló con éxito el primer horno de cristal óptico no lineal de tres temperaturas de mi país, el horno de cristal óptico TDR-Y60A.
En 2000, se desarrolló con éxito el primer horno de crecimiento de cristal óptico de China, el TDL-J50.
En 2000, se desarrolló con éxito el primer equipo de crecimiento de cristales dedicado a niobato y tantalato de litio de China, el horno de cristal TDL-N60.
En 2001, se desarrolló con éxito el primer horno de crecimiento de cristal óptico de gran diámetro de mi país, el horno de cristal óptico TDL-J60.
En 2001, se desarrolló con éxito el primer equipo de mi país para cultivar monocristal de germanio de gran diámetro de φ 300-400 mm, el horno monocristal de germanio TDR-Z80.
En 2001, se desarrolló con éxito el horno de cristal TDL-FZ50, un equipo de purificación de metales de tierras raras.
En 2002, se desarrolló con éxito el horno de carburo de silicio TDL-16A, un equipo para cultivar cristales de carburo de silicio.
En 2002, se desarrolló con éxito el horno de cristal TDR-H50C, un equipo estequiométrico de cristal de niobato de litio.
En 2004, se desarrollaron con éxito entre 4 y 6 equipos de cristal de GaAs: el horno de cristal de alto voltaje TDR-gy 652.
En 2005-2006, se desarrollaron con éxito equipos auxiliares para la producción de polisilicio: el horno de núcleo de silicio TDL-GX36, TDL-GX36A y los detectores de fósforo y boro TDL-FZ26, TDL-FZ26A.
En 2006, la empresa desarrolló el primer equipo de crecimiento nacional para el cultivo de 12 monocristales de silicio de gran diámetro, el horno de monocristal TDR-120.
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