¿Qué es el proceso PVD?

El proceso PVD (deposición física de vapor) incluye los siguientes pasos:

1. Preparación del objetivo: seleccione un objetivo adecuado, generalmente un metal, una aleación o una cerámica. La preparación de los materiales objetivo incluye cortar en formas adecuadas (como discos y rectángulos) y pulir para obtener una superficie lisa y garantizar que la pureza y calidad de los materiales objetivo cumplan con los requisitos.

2. Establecimiento del entorno de vacío: coloque el objetivo y el sustrato que se van a recubrir en una cámara de vacío y utilice una bomba de vacío para evacuar la cámara para reducir la presión del aire interior al grado de vacío requerido. Establecer un entorno de alto vacío es clave para garantizar un proceso de PVD eficaz.

3. Limpieza y pretratamiento: antes de comenzar la deposición, generalmente es necesario limpiar y pretratar el sustrato para eliminar los contaminantes y óxidos de la superficie para garantizar una buena adhesión y calidad de la película. Los métodos de pretratamiento pueden incluir pulido mecánico, limpieza con disolventes, limpieza con haz de electrones o iones, etc.

4. Evaporación o pulverización catódica del objetivo: en una cámara de vacío, los átomos o iones de la superficie del objetivo se liberan calentando el objetivo o aplicando un bombardeo con haz de iones. Durante la evaporación, los átomos de la superficie objetivo se calientan y se evaporan; durante el proceso de pulverización catódica, los átomos o iones de la superficie objetivo son bombardeados por haces de iones o eliminados mediante una descarga de arco.

5. Formación de película de deposición: Los átomos o iones evaporados o pulverizados se depositan sobre la superficie del sustrato de manera condensada, formando gradualmente una película delgada. Durante el proceso de deposición, se deben controlar parámetros como la potencia objetivo, la velocidad de deposición, el tiempo de deposición y el ángulo de deposición para controlar el espesor, la composición y la estructura de la película.

6. Postprocesamiento y pruebas: Después de la deposición, es posible que se requieran algunos pasos de posprocesamiento, como recocido, pulido o sellado del recubrimiento, para mejorar el rendimiento de la película. Las películas también se pueden probar y evaluar, como medición de espesor, análisis de topografía de superficie, análisis de composición química y pruebas de rendimiento.